جميع الفئات
مختارات مميزة
    Trade Assurance
    مركز المشتري
    مركز المساعدة
      احصل على التطبيق
      انضم إلى المورِّدين

      مادة خام كيماوية 70% من مادة سودييوم دوديسيل إيثير سولفات لمستحضرات التجميل صابون سائل لغسيل الأطباق

      لا توجد تقييمات حتى الآن
      Hebei Teshang Technology Co., Ltd.1 yrCN

      السمات الأساسية

      المواصفة الأساسية في الصناعة

      CAS No.
      68585-34-2
      نقاء
      70 ٪ ، 28 ٪

      سمات أخرى

      مكان المنشأ
      China
      استعمال
      مواد خام تجميلية, مواد خام منظفة, كيماويات العناية بالشعر
      Other Names
      سليس
      MF
      C12H25O(CH2CH2O)2SO3Na
      EINECS No.
      209-553-4
      المظهر
      معجون أو سائل لزج أبيض أو أصفر فاتح
      اسم العلامة التجارية
      Teshang
      رقم الموديل
      TS40
      التخزين
      بارد وجاف
      طرد
      25 كج/كيس

      التعبئة والتغليف والتوصيل

      تفاصيل التعبئة والتغليف
      25 كج/كيس أو حسب طلبك
      عرض أكثر

      وقت الانتظار

      الكمية (طن)1 - 100101 - 500 > 500
      الوقت المقدر (بالأيام)715سيتم التفاوض عليه

      التخصيص

      Customized logo
      وردر: 100
      Customized packaging
      وردر: 100
      Graphic customization
      وردر: 100
      لمزيد من تفاصيل التخصيص، مراسلة المورِّد

      أوصاف المنتجات من المورِّد

      10 - 999 طن
      ‏٣٬٣٩٨٫٢١ ر.س.‏
      >= 1000 طن
      ‏٣٬٠٥٤٫٥٨ ر.س.‏

      الكمية

      الشحن

      لا تتوفر حلول شحن للكمية المحددة في الوقت الحالي
      إجمالي المنتج/المنتجات (0 أشكال 0 منتجات)
      $0.00
      إجمالي تكلفة الشحن
      $0.00
      الإجمالي الفرعي
      $0.00

      Membership benefits

      استرداد ثمن سريععرض المزيد

      سُبل الحماية لهذا المنتج

      مدفوعات آمنة

      يتم تأمين كل دفعة تقدمها على Alibaba.com باستخدام تشفير SSL صارم وبروتوكولات حماية بيانات PCI DSS

      سياسة استرداد الأموال وEasy Return

      طالِب باسترداد الثمن إذا لم يُشحن طلبك، أو فُقد، أو وصل مع وجود مشكلات في المنتج، بالإضافة إلى عمليات إرجاع مجانية إلى مستودعات محلية لوجود عيوب
      تحمي Alibaba.com جميع طلباتك التي تقدمها وتدفع ثمنها على المنصة باستخدام